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設備紹介

大気中VB装置(1)

抵抗加熱方式のVB炉を2台所有しています。
大気中での酸化物単結晶育成に用いられ、ヒータは3ゾーンで1500℃までの加熱が可能です。直径2インチまでのニオブ酸カリウム、タンタル酸カリウム、リチウムイオン電池用単結晶材料の育成に対して実績があります。

大気中VB装置(1)

大気中VB装置(2)

抵抗加熱方式のVB炉を2台所有しています。
大気中での酸化物単結晶育成に用いられ、ヒータは3ゾーンで1500℃までの加熱が可能です。直径2インチまでのニオブ酸リチウム、ニオブ酸タンタル酸混晶、ランガサイト系単結晶材料の育成に対して実績があります。

大気中VB装置(2)

高周波加熱VB装置

高周波加熱方式のVB結晶育成装置です。
炉内を不活性雰囲気にすることができ、サファイアやランガサイト系単結晶を育成できます。

高周波加熱VB装置

融解・凝固炉

抵抗加熱式の融解・凝固装置です。
不活性雰囲気にて2000℃以上に加熱でき、減圧~10気圧までの圧力下でのその場観察が可能です。サファイアの融解・凝固過程のその場観察の実績があります。

融解・凝固炉

焼結炉

大気中で1500℃まで加熱可能な大型の焼成炉です。酸化物の原料合成に用いており、ニオブ酸リチウムのポーリング処理も可能です。

焼結炉

CIP

圧力150MPaまでかけられる静水圧プレス機です。主に酸化物原料の粉体を円柱状にプレスし原材棒の作成に用います。

CIP

切断機

直径1インチまでの結晶を切断できる外周刃式の切断機です。

切断機

研磨機

直径2インチまでのウェハを鏡面に研磨できる研磨機です。

研磨機