『半導体加工装置の開発史 －半導体の微細化と製造のシステム化への挑戦－』出版
『半導体加工装置の開発史 －半導体の微細化と製造のシステム化への挑戦－』（発行：サイバー出版センター）が出版されました。干川特任教授は第2章6節「結晶育成装置の開発と育成技術」の執筆を共同担当しました。
表面科学誌の巻頭言の執筆依頼を受けました
干川圭吾 巻頭言“シリコン最新技術の高感度画像センサへの展開”特集号に寄せて 表面科学, 37(3), 103 (2016) ＊https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsssj/37/3/37_103/_pdf
第63回応用物理春季学術講演会にて発表
第63回応用物理春季学術講演会（東京工業大学）にて、3件の研究成果発表を行いました。 ・小林拓実, 干川圭吾他：一方向凝固β-Ga2O3単結晶（Ⅰ） ・大葉悦子, 干川圭吾他：一方向凝固β-Ga2O3単結晶（Ⅱ） ・太子敏則, 干川圭吾他：タンタル酸ニオブ酸カリウム（KTN）結晶成長における初晶の検討